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(CWW)6月30日,荷蘭政府頒布了有關(guān)半導(dǎo)體設(shè)備出口管制的新條例。ASML在公告中指出,這些新的出口管制條例針對對象為先進的芯片制造技術(shù),包括最先進的沉積設(shè)備和浸潤式光刻系統(tǒng)。
根據(jù)新出口管制條例規(guī)定,ASML需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發(fā)運最先進的浸潤式DUV系統(tǒng)(只涉及TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)),荷蘭政府將決定是否授予或拒發(fā)出口許可證,并將向ASML提供許可證所附條件的細節(jié)。
新出口管制條例將于2023年9月1日生效,在此日期前,ASML可開始提交出口許可證申請。荷蘭政府將視具體情況批準或拒絕這些申請。ASML表示,將繼續(xù)遵守適用的出口管制條例,其中包括荷蘭、歐盟及美國的出口管制條例。
此前,ASML的EUV光刻系統(tǒng)已經(jīng)受到限制,但其他光刻系統(tǒng)的發(fā)運未受荷蘭政府管控。
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