采用等離子體刻蝕技術(shù) 中微公司ICP刻蝕設(shè)備第100臺(tái)反應(yīng)腔交付

發(fā)布時(shí)間：2021-07-20 09:34:09  |  來源：IT之家  

中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司在上海總部舉辦電感耦合等離子體(ICP)刻蝕設(shè)備 Primo nanova 第 100 臺(tái)反應(yīng)腔交付客戶慶祝儀式。

IT之家了解到，Primo nanova 是中微公司于 2018 年發(fā)布的第一代電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備，采用了中微公司的電感耦合等離子體刻蝕技術(shù)。

中微公司表示，目前，Primo nanova 產(chǎn)品已成功進(jìn)入海內(nèi)外十余家客戶的晶圓生產(chǎn)線，在邏輯芯片、DRAM 和 3D NAND 廠商的生產(chǎn)線上實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)。

關(guān)鍵詞： 等離子 刻蝕 中微公司 ICP刻蝕

 

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