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ASML發(fā)言人表示,盡管出口限制從9月份開(kāi)始實(shí)施,但該公司在年底前獲得了向中國(guó)出口受限芯片制造設(shè)備的許可證。
據(jù)彭博社8月31日?qǐng)?bào)道,美國(guó)限制向中國(guó)出口尖端技術(shù)的努力,損害了ASML的利益,中國(guó)是ASML的第三大市場(chǎng)。美國(guó)政府曾敦促荷蘭政府阻止ASML在沒(méi)有許可證的情況下向中國(guó)出口浸入式DUV光刻機(jī),新限制于9月1日正式生效。
ASML發(fā)言人表示:“從9月開(kāi)始的四個(gè)月期限是為了讓ASML能夠履行與中國(guó)客戶(hù)的合同義務(wù)。但預(yù)計(jì)不會(huì)獲得新出口許可證,從1月份開(kāi)始向中國(guó)出口三款先進(jìn)的浸入式深紫外光刻機(jī)(DUV)?!?/p>
據(jù)悉,今年6月末荷蘭發(fā)布新出口管制措施,規(guī)定半導(dǎo)體廠(chǎng)商在出口一些先進(jìn)的深紫外光刻(DUV)系統(tǒng)時(shí)申請(qǐng)出口許可證。知情人士稱(chēng),在新規(guī)定生效之前,中國(guó)芯片制造商一直在爭(zhēng)相收購(gòu)重要設(shè)備。海關(guān)數(shù)據(jù)顯示,今年到目前中國(guó)從荷蘭進(jìn)口的此類(lèi)設(shè)備已經(jīng)超過(guò)了2022年全年的總量。
這些規(guī)定涵蓋了一小部分用于芯片制造工藝的極其先進(jìn)的設(shè)備,包括浸潤(rùn)式深紫外(DUV)光刻和原子層沉積(ALD)設(shè)備。ASML曾表示,其最先進(jìn)的DUV設(shè)備屬于新規(guī)定的范圍,但其主流DUV設(shè)備不屬于新規(guī)定的范圍。自2019年以來(lái),該公司已被禁止向中國(guó)出口其更先進(jìn)的EUV(極紫外線(xiàn))光刻機(jī)。
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