韓媒：韓國(guó)企業(yè)在 EUV 光刻技術(shù)取得極大進(jìn)展

據(jù)韓國(guó)媒體上周報(bào)道，韓國(guó)本土企業(yè)在 EUV 光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展。但并沒(méi)有提到是哪一家企業(yè)，合理推測(cè)應(yīng)指代韓國(guó)整個(gè)半導(dǎo)體光刻產(chǎn)業(yè)。

EUV 光刻技術(shù)是多種先進(jìn)技術(shù)的復(fù)合體，例如多層反射鏡，多層掩模，防護(hù)膜，光源和注冊(cè)表(registries)。

在過(guò)去的十年中，包括三星電子在內(nèi)的全球公司進(jìn)行了深入的研究和開發(fā)，以確保技術(shù)處于領(lǐng)先地位。最近，代工公司(意指三星)開始使用 5 納米 EUV 光刻技術(shù)來(lái)生產(chǎn)智能手機(jī)的應(yīng)用處理器(AP)。

按公司劃分，全球六大公司的專利申請(qǐng)數(shù)占了總數(shù)的 59%，卡爾蔡司(德國(guó))占 18%，三星電子(韓國(guó))占 15%，ASML(荷蘭)占 11%，S&S Tech(韓國(guó))占 8%，臺(tái)積電(臺(tái)灣)為 6%，SK 海力士(韓國(guó))為 1%。

從具體的技術(shù)項(xiàng)目來(lái)看，曝光裝置技術(shù)申請(qǐng)專利占 31%，掩膜技術(shù)申請(qǐng)專利占 28%，其他申請(qǐng)專利占 9%。在工藝技術(shù)領(lǐng)域，三星電子占 39%，臺(tái)積電占 15%。在光罩領(lǐng)域，S&S 科技占 28%，Hoya(日本)占 15%，漢陽(yáng)大學(xué) (韓國(guó))占 10%，朝日玻璃 (日本)占 10%，三星電子占 9%。

IT之家了解到，韓媒還提到了韓國(guó)專利數(shù)量，據(jù)韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局 (KIPO)發(fā)布的《近 10 年 (2011-2020 年)專利申請(qǐng)報(bào)告》顯示，2019 年，韓國(guó)提交的專利申請(qǐng)數(shù)量為 40 件，超過(guò)了國(guó)外企業(yè)的 10 件。

韓媒稱這是韓國(guó)提交的專利申請(qǐng)量首次超過(guò)國(guó)外企業(yè)。到 2020 年，韓國(guó)提交的專利申請(qǐng)也將是國(guó)外企業(yè)申請(qǐng)的兩倍以上。

關(guān)鍵詞： EUV， 光刻技術(shù)